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ガラスといえば、皆さんもよくご存知だと思います。普段私たちが目にする窓ガラスやガラス、鏡のレンズなどはガラスでできています。しかし、光学ガラスについては、あまり馴染みがない方も多いのではないでしょうか。光電子情報科学と新材料科学の継続的な融合により、光伝送、光ストレージ、光電ディスプレイの3つの分野におけるオプトエレクトロニクスの基礎材料としての光学ガラスの応用が急速に進展し、社会の情報化、特に光電情報技術の発展の基礎条件の一つとなっている。光学ガラスについて、どれくらいご存知ですか？今日は光学ガラスについて少しご紹介します。光学ガラスは、太陽光発電技術産業の基盤であり、重要な構成部分です。特に1990年代以降、光電子情報科学と新材料科学の継続的な融合により、光伝送、光ストレージ、光電ディスプレイの3つの分野において、光学ガラスはオプトエレクトロニクスの基礎材料として急速に応用されてきました。社会の情報化は、オプトエレクトロニクス情報技術の発展における基本条件の一つです。光学ガラスと一般的なガラスの主な違いは、光学ガラスは高い透明性、高い物理的・化学的均一性、そして特定の精密な光学定数を備えていることです。通常、光学ガラスの主成分であるSiO2は、耐熱性、低膨張係数、高い機械的強度、優れた化学的性質といった特性を有しており、特殊な要求を持つプリズム、レンズ、窓、鏡の製造に使用されます。光学ガラスは高い透明性と確かな品質を備えているため、現在も幅広い用途で使用されています。それでは、光学ガラスの主な種類を見てみましょう。光学ガラスには、主に、①無色光学ガラス、②有色光学ガラス、③耐放射線光学ガラス、④耐放射線光学ガラス、⑤紫外線・赤外線光学ガラス、⑥光学石英ガラスの6種類があります。この科学の後、光学ガラスについてもっと知りましたか？光学ガラスシリンドリカルレンズ,光学ガラスペンタプリズム? 光学ガラスにご興味のある方は、ぜひお問い合わせください！

光学分析法光学分析法は、光放射エネルギーと物質との相互作用（発光、吸収、散乱、光電子放出など）に基づく分析方法の一種です。機器分析における重要な方法の一種に属し、スペクトル法と非スペクトル法の2種類に分けられます。スペクトル分析は、光放射エネルギーと物質の組成および構造との間の内部関係とその現れであるスペクトル（またはスペクトル）の測定に基づいています。非スペクトル分析は、物質の内部エネルギーの変化を含まないが、物質によって引き起こされる放射方向および物理的特性の変化に基づいています。スペクトル法は、次の 3 つの基本的なタイプに分けられます。1. 発光分光法原子発光分析、原子蛍光分析、分子蛍光分析、蛍光X線分析、電子エネルギースペクトル分析など。2. 吸収分光法紫外線分光法、赤外線分光法、電子スピン共鳴および核磁気共鳴分光法、マスボール分光法、原子吸光分光法などを含みます。3. 散乱スペクトル法主な方法はラマン散乱スペクトルです。非スペクトル法には屈折、偏光、旋光分散、円二色性、X線回折、濁度分析などがあります。

光学ブランクの成形工程は、光学ガラスの溶解技術や光学加工技術に直接関係しており、全体としてシステムとして考える必要があります。光学ガラスの開発以来、ガラス部品のブランク（レンズ、プリズム）の製造は、一般的に良質のガラス塊を溶かし、軟化させ、金型に詰めて大まかな形状にプレスし、その後、粗研削、微研削、研磨して作り出すことになります。この方法は、1970年代に光学ガラスの連続溶解技術が登場した後、補助的な方法として使用されてきました。1970年代以来、光学ガラスが発達した日本の主要工場は、光学ガラス生産において最先端の生産技術を採用してきました。3D（三直）生産技術、すなわち直接電気溶解、成形、精密直接焼鈍、直接連続溶融、または坩堝滴下材料直接成形法（海外では「プレス」と称される）が含まれます。このような高度な成形技術は、ガラスを直接光学ブランクに圧縮することで、二次成形の生産技術を大幅に簡素化し、人力と設備を節約し、エネルギー消費を減らし、原材料の利用率を向上させます。日本の谷間光学ガラス社の3D生産技術では、従来の粘土坩堝炉法では170日かかっていましたが、白金坩堝注湯法では34日の生産サイクルを3サイクルに短縮しました。歩留まりは、従来の最高40%から90%以上に向上しました。光学ガラスプレス型は非研磨プレス型とも呼ばれ、プレス型で製造された光学素子は研削、研磨、エッジ研削、センター研削などの光学加工を必要とせず、光学機器に直接組み立てられることを意味します。光学ガラス成形片の表面仕上げと寸法精度の要求は非常に高く、通常、光学ブロックゲージを使用して光学素子の表面仕上げと寸法精度を測定し、その品質を測定するために干渉縞の数を使用します。カメラシステム用のレンズの場合、通常、レンズを通過するニュートンリングの半径の数は6未満、通過する2つの互いに直交する半径のニュートンリングの数は3未満である必要があります。2つのニュートンリングの数が少なければ少ないほど、レンズの品質は高くなります。精密プレス加工では、加熱軟化したガラスを窒素などの不活性ガスで保護された金型に充填します。金型の内面は高い表面仕上げと寸法精度が求められます。金型の内面に付着する材料は、高硬度、耐酸化性、熱伝導性、高温でもガラスと接着しない、優れた衝撃強度と分析強度を備え、ガス、水蒸気、液体を介さないことが求められます。これらの要件を満たす材料としては、ガラスカーボン、炭化ケイ素、窒化ケイ素が挙げられます。しかし、後者2つと比較すると、ガラスカーボンは緩く酸化されやすく、傷がつきやすく、弾性率が小さいという欠点があります。衝撃強度と分析強度が低く、熱伝導性も劣ります。海外の特許報告書によると、1970年代初頭にはガラスカーボンが成形金型の内面に使用され、1970年代半ばに発行された特許では炭化ケイ素または窒化ケイ素が使用されていました。これらの2つの材料を金型の内面に付着させる方法としては、（1）高温加圧、（2）イオンスプラッシュライニング、（3）などがあります。ガス蒸着。その固定層の厚さは少なくとも 10ptm です。このタイプの金型の構造はかなり複雑です。ガラスのプレスが完了した後、金型をすぐに取り外すことはできず、取り外す前にガラスの温度を転移温度以下に下げる必要があります。精密プレスにより、球面、非球面、その他の複雑な形状の光学部品を抑制できます。80 年代半ばには、光学ガラスの製造に、ガラス表面の加工精度が Y/10、厚さと直径の許容差が 10 µm、くさび角が 10-3 ミル未満、複屈折 /CM が 10 未満、Y/屈折率の均一性が 10-6 の 2 つの精密レンズを成形する成形ガラスが使用され、日本、ドイツなどの国では精密レンズの精密成形が採用されています。光学ガラスの生産は、塊状材料、二次圧延材料、そして直液圧延材料へと発展してきました。現在、中国における光学ガラス生産の主な供給形態は依然として塊状材料です。光学産業全体の経済的利益を考慮すると、直液圧延材料の生産開発は喫緊の課題です。中国の現在の光学ガラス生産技術レベルと市場の実際のニーズを踏まえ、まず二次圧延生産を着実に進め、二次圧延生産の改善においては、良好な材料調製の解決策に留意する必要があります。離型剤、ガラスの磁器箱材料への付着防止、機械加工といった主要な技術課題は、自動化、直液圧延型、二次圧延型といった明確な技術的・経済的効果をもたらす二次圧延型が、将来の光学ガラス生産の唯一の道となります。しかし、現在の中国光学産業の実際のニーズを出発点とし、同時に光学ガラス生産技術の国際的な発展動向を参照するならば、直液圧延型の開発においては、我が国の多品種、小ロット、多仕様の直圧延型の開発に特に注意を払い、良好な小ロット生産の問題を解決することが重要です。バッチ式直接光学ガラス成形は、まず小バッチ式光学ガラス溶融技術の問題を解決し、それに対応する光学ガラス溶融タンク炉を開発する必要があります。二次圧力式と直液圧力式の開発と改良を行うと同時に、精密圧力式の研究とテストを積極的に行い、中国の光学ガラス圧力式技術ができるだけ早く世界の先進レベルに追いつくようにする必要があります。

ブラッグ反射器（分布ブラッグ反射器とも呼ばれる）は、調整可能な多層構造からなる 2 つの光学材料から構成される反射器構造です。最も一般的なのは 1/4 ミラーで、各層の厚さは波長の 1/4 に相当します。ブラッグ反射器（分布ブラッグ反射器とも呼ばれる）は、調整可能な多層構造を持つ2つの光学材料から構成される反射器構造です。最も一般的なのは1/4ミラーで、各層の厚さは波長の1/4に相当します。後者の条件は直接入射の場合に適用されます。反射器を大きな入射角で使用する場合、必要な層の相対的な厚さはより大きくなります。プラハミラーの仕組みフレネル反射は、2つの物質の各界面で発生します。動作波長において、隣接する2つの界面における反射光の距離差は半波長です。さらに、界面における反射係数の符号も変化します。そのため、界面におけるすべての反射光は互い​​に干渉し、強い反射を得ます。反射率は層数と物質間の屈折率差によって決まります。反射帯域幅は主に屈折率差によって決まります。図1は、8層のTiO2およびSiO2材料を備えたブラッグ反射鏡の電界浸透曲線を示しています。青い曲線は、右から入射する波長1000nmの光の強度分布に対応しています。ミラーの外側の強度曲線は、反対方向の波の干渉効果により振動していることに注意してください。灰色の曲線は、波長が800nmのときの強度分布曲線であり、光の大部分が反射鏡コーティングを通過できます。ブラッグミラーの電界浸透曲線。図 2 は、波長による反射率と群遅延時間分散の変化曲線を示しています。一部の光帯域幅では反射率が非常に高く、これは使用される材料の屈折率差と層数に関係しています。分散は、光周波数に対する反射位相の 2 次導関数によって計算されます。分散は反射バンドの中心波長では小さいですが、その両側で急速に増加します。図 3 は、光場透過反射器のカラー スケールを示しています。ご覧のとおり、光場のごく一部だけが反射器を透過できます。ブラッグミラーの種類ブラッグ反射器は次の技術で作成できます。誘電体反射器には、電子ビーム蒸着やイオンビームスパッタリングなどの薄膜コーティング技術が採用されており、固体レーザーのレーザー反射器として使用できます。この反射は非晶質材料で構成されています。長周期ファイバーグレーティングを含むファイバーブラッググレーティングは、ファイバーレーザーやその他の光ファイバーデバイスで一般的に使用されています。同様に、ボディブラッググレーティングも感光性材料から作ることができます。半導体ブラッグミラーはフォトリソグラフィーによって作製できる。この反射器はレーザーダイオード、特に面発光レーザーに使用できます。導波管構造に使用されるブラッグ反射器にも様々な種類があり、コルゲート導波管構造を採用し、フォトリソグラフィーによって作製されます。このタイプの格子は、一部の分布ブラッグ反射器または分布帰還型レーザーダイオードで使用できます。単純な 4 分の 1 反射器設計とは異なる多層反射器設計もあります。層数が同じ場合、通常は屈折率が低くなりますが、分散補償用の二色性反射器またはチャープ反射器として最適化できます。

この場合、例として、ZYGO 干渉計が提供するデータを使用します。ZYGO 干渉計は、会社向けにデータ ファイル形式を生成しました。ZXGRD ファイルは、OpticStudio でファイル形式を DAT ファイルに変換する必要があります。例として、ZYGO 干渉計が提供するデータを使用します。ZYGO 干渉計は、会社向けにデータ ファイル形式を ZXGRD で生成します。OpticStudio でファイル形式を DAT に変換し、Zemax ルート ディレクトリ「DocumentZemax/ObjectsGrid Files」に保存する必要があります。データファイル冒頭のスクリーンショットを見ると、データ形式は先週の記事で紹介したグリッドサグのデータ形式と同じであることがわかります。XY方向のデータポイント数は732で、データポイント間の距離は0.01344なので、データファイルの直径は9.72mmとなります。ファイルの最初の行には、データ単位がmmであることを示す終端フラグ（flag）が0に設定されています。測定データが波面データとして保存されている場合は、このデータ ファイルを位相データとして扱う必要があることに注意してください。OpticStudio のグリッド サグはラジアン単位です。したがって、測定データを変換する必要があり、変換式は次のとおりです。Zemax単位（ラジアン）= ZYGO測定単位（mm）×2この例で提供されるデータ ファイルでは、測定された波長は 632.8nm なので、次のようになります。Zemax単位（ラジアン）= ZYGO測定単位（mm）×2 PI / 0.0006328 = 9924×（ZYGO測定単位）絞りレンズエディタ（STO）で位相面タイプをグリッドに設定し、面のプロパティを設定します。インポートタブで、以前に保存したデータファイル（この場合はテスト用）をインポートします。DATファイルは下図のようになります。一方、グリッド位相の回折次数は、上記で計算した単位変換値で入力します。[OK] をクリックすると、干渉計のデータと一致する次の干渉グラムの結果が表示されます。

波面マップ、点広がり関数 (PSF)、変調伝達関数 (MTF) などの波面ベースの分析と計算でサンプリングする方法。質問：波面グラフやその他の相関分析におけるサンプリング グリッドの中心はどこにありますか?まず、波面図を観察します。波面データは、PSF、MTF、円エネルギーへの変換 (Encircled Energy) など、他の多くの OpticStudio 解析機能の基礎となります。数値計算を行う際は、瞳孔の対称性を維持し、主光線の位置をビームの中央の実際の点に保つ必要があります。また、FFT アルゴリズムの中心点を決定する必要があります。これらの要件を満たすには、瞳孔空間 (さまざまな定義によって近接場または空間場と呼ばれます) 内の瞳孔の中心、つまり (n/2+1、n/2+1) を定義する必要があります。そのため、波面図をよく見ると、左端の列のデータがすべてゼロであることがわかります。それではPSF分析を見てみましょう。PSFは高速フーリエ変換後の波面四角形の結果です。FFT PSFはPSF は (n/2,n/2) のピクセル (16,16) を中心としていることがわかります。これは、FFT の計算方法と OpticStudio の方向の定義に関係しています。ある領域 (空間領域など) でグリッドの中心点が n/2+1 である場合、別の領域 (周波数領域など) の中心点の座標は n/2 です。下の図をよく見ると、左端の列と一番下の行のデータが空白であることがわかります。MTF計算において、MTFは波面の自己相関関数であり、ピクセル数は通常、波面グラフの2倍です（座標軸の変化に関わらず）。そのため、OpticStudioはMTFを計算するために、まず32x32のデータポイントを64x64のデータポイントにデータ0で補完し、自己相関計算を行います。3D FFT MTF（表面FFT MTF）の場合、OpticStudioは波面前のFFTを2乗してからFFTを計算します。つまり、MTFはPSFのフーリエ変換です。次の結果が得られます。ピーク ポイントは座標 (32,32)、つまり (n/2,n/2) にあることがわかります。OpticStudio は、自己相関関数 1/(lambda*F/#) の境界を使用して 3D FFT MTF の周波数間隔を決定します。ここで、lambda はシステム内の最短波長です (複数波長の結果を計算する場合)。OpticStudio は、実際にはすべての波長のカットオフ周波数を F の数で乗じて計算し、その最大値に基づいてチャート全体をスケーリングします。その他の波長は、すべての PSF が同じ距離でサンプリングできるように瞳孔空間でスケーリングされます。カットオフ周波数の 2 倍は光伝達関数 (OTF) の幅 (グラフの上では 850.06 サイクル/mm) にすることができ、その結果を 2 * n (MTF はゼロ パディング後のピクセル数を計算) で割るとサンプル ポイントの間隔が得られます。例えば、OTFの幅は850.06サイクル/mmで、サンプリングポイントは32x32です。したがって、ポイント間隔は850.06/64 = 13.282サイクル/mmです。3D FFT MTFグラフの中心点は座標(n/2,n/2)=(32,32)にあり、対応する周波数はグラフ内で0です。つまり、32列目のピクセルは、X軸上の0サイクル/mmの周波数の点に対応します。列33は13.282サイクル/mmの空間周波数に対応し、列34は26.564サイクル/mmの空間周波数に対応します。以下同様です。最後の列である列64の空間周波数は32x13.282 = 425.03サイクル/mmです。最初の列は-31x13.282の空間周波数に対応します。 = -411.748 サイクル/mm。PSF と同様に、3D FFT MTF チャートには、左端の列と最下端の動作ホワイト スペース データがあります。したがって、周波数座標軸の左側と右側のデータは厳密には対称ではありません (上側と下側も同様)。ただし、各データは周波数座標系の「中心」に沿って対称であることに留意してください。左または右 (上または下) の端にある「ハーフ セル ピクセル」を考えると、全体の幅は実際には 1 mm あたり 850.06 サイクルです。有限サイズのピクセルの端は全体の幅をカバーしますが、各ピクセル (列または行ごと) の中心座標は、各側から半ピクセルずつ挿入されます。当社は、以下の非球面光学部品を卸売しています。 光学精密ガラス非球面レンズ精密非球面レンズなど。

科学技術の発展に伴い、洗練された製品や現代の兵器は光学素子の品質をますます要求しており、非球面光学素子はその優れた性能と応用範囲の広さからますます需要が高まっており、需要はますます切迫しており、非球面部品の表面形状検出の研究者は注目しています。本稿では、既存の非球面光学素子の面検出方法に焦点を当て、さまざまな方法の検出原理を紹介し、さまざまな方法の長所と短所を示します。非球面と球面に最も近い偏差ベクトルの法線方向に沿った曲線 OP0A は非球面を表し、曲線 OM0A は球面に最も近く、曲線 C は球面に最も近く、曲線 OP0A は非球面球面にほぼ同心円状で接線をなし、POMO は最大の非球面度です。非球面度の最大値は、加工やテストの重要な基礎となります。非球面部品のテストでは、非球面面形状の測定方法、基準面に最も近い偏差ベクトルの検出方法、次に設計値と基準球面差の最も近い値を比較する方法、非球面基準球面との差の最も近い値と基準球面面との差の最も近い値をステラジアンで計算する方法、そして各ポイントでの曲率半径の測定方法は、球面度テストの重要な部分となります。当社は、以下の非球面光学部品を卸売しています。 光学精密ガラス非球面レンズ精密非球面レンズなど。

膜干渉の原理1.光の揺らぎ。光の波動粒子二重性は、電波やX線と同じであることが知られています。これらの光線は電磁波ですが、周波数が異なります。電磁波の波長、周波数u、伝播速度Vの関係は次のとおりです。V = ラムダ u様々な周波数の電磁波は真空中を等速で進むため、それぞれ異なる波長を持ちます。周波数が高いほど波長が短くなり、周波数が高いほど波長が長くなります。比較のために、電波、赤外線、可視光線、紫外線、X線、ガンマ線などを、波長（または周波数）の大きさに応じてスペクトル状に並べたものを、電磁スペクトルといいます。電磁スペクトルにおいて、最も波長の長いのは電波で、波長の違いにより長波、中波、短波、超短波、マイクロ波に分けられます。2番目は赤外線、可視光線、紫外線で、これらはまとめて光放射と呼ばれます。すべての電磁波の中で、人間の目に見えるのは可視光線だけです。可視光線の波長は約0.76ミクロンから0.40ミクロンで、電磁スペクトルのほんの一部に過ぎません。繰り返しますが、これはX線です。電磁波の最も波長の短いものはγ線です。光は電磁波の一種であるため、干渉、回折、偏光など、伝送の過程で実現される必要があります。2.薄膜干渉フィルムは、透明な固体、液体、または2枚のガラスの間に挟まれた薄い気体層です。入射光は、最初の光線が薄膜の表面で反射し、反射、屈折した後、薄膜表面を通過し、2番目の光線が薄膜の表面で屈折した後、同じ入射振動によって分離された膜の同じ側の光はコヒーレント光であり、干渉の振幅に属します。光源が拡張光源（面光源）の場合、干渉は2つのコヒーレントビームの特定の重なり合う領域でのみ観察されるため、局所干渉となります。2つの表面は互いに平行であり、干渉縞は無限遠にあります。通常は収束レンズによってそれらの像に現れます。ウェッジフィルムの場合、干渉縞は薄膜の近くに局在します。実験と理論の両方において、干渉縞は2つの光波が特定の関係にある場合にのみ生成されることが証明されており、これはコヒーレンス条件と呼ばれます。フィルムのコヒーレンス条件には、2つのビームの周波数の3つの点が含まれます。同じです。光波のビームは同じ方向に振動します。2 つの光波間の位相差は一定のままです。薄膜によって干渉される 2 つのコヒーレント光間の光路差は次のとおりです。Δ=ntcos(α)±λ/2ここで、n はフィルムの屈折率、T は入射点におけるフィルムの厚さ、Q はフィルム内の屈折角、Direction /2 は、異なる特性を持つ 2 つの界面 (1 つは光学的に汚染された媒体から光学的に密な媒体への界面、もう 1 つは光学的に密な媒体から光学的に汚染された媒体への界面) における 2 つのコヒーレント光線の反射によって生じる追加の光路差です。薄膜干渉の原理は、光学表面検査、小角度または直線性の精密測定、反射防止フィルムおよび干渉フィルターの作成に広く使用されています。WTSフォトニクス株式会社は、光学レンズ製造・光学製品サプライヤーです。光学製品には、光学窓、光学レンズ、光学プリズムなどが含まれます。 フューズドシリカウィンドウs光学ガラス色消しレンズ、直角プリズムはここでは重要なサービスです！

★ 1/1×0.04、1/1×0.04は、直径0.04の気泡を許容します。実際には、気泡の面積は1×0.042=0.0016mm²で、多数の小さな気泡に分割できますが、総面積は同じです。1/1×0.04は、1/3×0.025や1/6×0.016、1/16×0.001などと同じです。式に括弧が付いている場合は、複数の小さな気泡に分割できません。★ 2/01 2/はストライプの要件を示し、2/01はバンド01が01〜04にすることができることを示します。★3/3（1）0.5 3 /前記絞りの要求3/3 fナンバーは3、（1）0.5前記括弧内の数字は、2つの垂直方向fナンバーの差、すなわち、絞りの方向が3、2垂直絞りのローカルエラー（干渉縞の滑らかな小さな偏差）は0.5円を許容します★ 4/3.2 '4/ は、偏心量の要求が 4/3.2' であることを示し、面の傾斜が 3.2 ' であることを示します。たとえば、ボールの中心の偏心量は C として計算されます。C = 面の傾斜 x 球面半径 /3438 の場合: R = 53.43 面の傾斜 3.2 '、C = 3.2 * 53.43 / 3438 = 0.0497 mm。★ 5/1x0.063; K2 x 0.004;R0.1 5 /は表面欠陥の要件を表します5 / 1 * 0.063;K2 x 0.004;R0.1 1 x 0.063は、0.063mmの大きさの麻の点が許容されることを示します。これは、1 * 0.0632 = 0.004mm2のように、多くの小さな麻の点に変換できます。これは、次のように変換できます。3 * 0.05;6 x 0.025;16 * 0.016;40 x 0.010は、1 * 0.04 + 4 * 0.025に変換できます。麻の総面積が変更されない限り、括弧を使用して、複数の小さなピットに分割することはできません。K2 x 0.004は、幅が2つの任意の長さのスクラッチマークを示します。 0.004mm の傷は、同じ傷面積を持つ多くの小さな傷に除去されることもありますが、合計面積は同じままです。傷領域は、ピット領域に置き換えられることもあります。R0.1 は、深さ 0.1mm の破損エッジの数に制限がないことを示します。★ 50/2 x 0.1;G2 x 0.25;C2 * 0.25 50/は、コーティング後のフィルムの表面欠陥に対する要件が50/2 x 0.1;G2 x 0.25;C2 * 0.25であることを示します。フィルム層は、0.1mmサイズの欠陥2つ（ピット、スクラッチなどを含む）、および0.25mmサイズのグレーパッチ2つと0.25mmの色斑点1つを許容します。★6/10は、材料応力の要件が6/10であることを示します。これは、10nmの光路差が許容されることを意味します。つまり、光は1cmごとに10nmの差を生じさせることができます。

光学フィルムは、精密光学機器やディスプレイデバイスから日常生活における光学フィルムの応用まで、私たちの生活のあらゆるところに存在しています。光学フィルムは、用途分類、特性、用途に応じて、反射フィルム、反射防止フィルム、フィルター、偏光板、補償フィルム、位相差フィルム、配向フィルム、拡散フィルム、増光フィルム、プリズムシート、コンデンサーフィルム、遮光フィルム、白黒フィルムなどに分類できます。関連製品には、光学グレード保護フィルム、ウィンドウフィルムなどがあります。1. 反射フィルムは一般的に2種類に分類されます。1つは金属反射フィルム、もう1つは全電気反射フィルムです。2.反射防止/反射防止フィルム 反射防止コーティングは、反射防止コーティングとも呼ばれ、その主な機能は、レンズ、プリズム、平面鏡、およびその他の学習表面の反射光を低減または除去することで、これらのコンポーネントの光透過率を高め、システムの迷光を低減または除去することです。3、フィルター フィルターはプラスチックやガラスで作られ、特殊な染料が添加されています。赤色フィルターは赤色光のみを透過します。ガラス板の屈折率は空気とほぼ同じで、あらゆる色合いの光を透過するため透明ですが、染料を染色すると分子構造が変化し、屈折率も変化し、特定の色の光の透過率が変わります。例えば、白色光が青色フィルターを通過すると、青色の光線が放出されます。緑色と赤色の光はごくわずかで、ほとんどがフィルターに吸収されます。4. 偏光板 偏光フィルムの正式名称は偏光板です。偏光板の主な役割は、非偏光の自然光を偏光に変換し、液晶分子のねじれ特性を利用して光の透過を制御し、透過率と視野角範囲を拡大し、防眩などの機能を実現することです。5. 補償フィルム／位相差板 補償フィルムの補償原理は、様々な表示モード（TN/STN/TFT（VA/IPS/OCB））において、様々な視野角で液晶に生じる位相差を補正することです。簡単に言えば、液晶分子の複屈折性を利用して、その性質を対称性によって補償します。6、配向膜 配向膜は直線状の縞模様の傷が付いた薄い膜で、液晶分子の配列方向を誘導する役割があります。7、フィルムの普及拡散フィルムはTFT-LCDバックライトモジュールの重要な構成要素であり、液晶ディスプレイに均一な面光源を提供することができます。8. 輝度向上フィルム／プリズムシート／集光フィルム　輝度向上フィルムはプリズムシートとも呼ばれ、BEF（Brightness EnhancementFilm）と略されることが多く、TFT-LCDバックライトモジュールの重要な部品です。主に光の屈折と反射の原理に基づいています。9、遮光フィルム/白黒糊 白黒遮光糊 | 遮光フィルムは主にバックライト光源に使用され、固定された遮光効果（光の側面と光の位置を覆う）から、遮光フィルム、白黒フィルムとも呼ばれ、白黒糊（一種の両面テープとも言える）と呼ばれます。WTSと共有された知識を通じて、私たちはこれらの膜システムへの理解を深めています。当社は、ARフィルム、MgF2フィルム、ALフィルム（金属フィルム）も取り扱っています。 光学窓,光学レンズ、光学プリズム製品。お問い合わせをお待ちしております。